[14a-C31-1~10] 3.7 レーザープロセシング

[14a-C31-10] 真空紫外レーザーによるシリコーンゴム表面への微細周期構造の形成(3)

〇ウィスヌ パンブディ セティオ¹、大越 昌幸¹、野尻 秀智¹、山下 嗣人² (1.防衛大学校、2.関東学院大学)

キーワード：ArFエキシマレーザー、シリコーンゴム、微細隆起構造

厚さ2㎜のシリコーンゴム表面に，直径2.5 µmのシリカガラス製微小球を単層に整列させ，微小球表面にArFエキシマレーザー（波長193 nm）を，フルエンス10 mJ/cm²，ショット数1800ショット，パルス繰り返し周波数1～20 Hzで照射した．その結果，パルス繰り返し周波数1 Hzのとき，2.5 µmの間隔で，高さ約1.3 µmの周期的な微細隆起構造が明確に形成することをことが明らかにした．