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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス

[14p-B4-1~15] 3.15 シリコンフォトニクス

2016年9月14日(水) 13:45 〜 18:00 B4 (展示ホール内)

庄司雄哉(東工大)、堀川剛(産総研)、金高健二(産総研)

15:00 〜 15:15

[14p-B4-5] 直接貼付InP/Si基板上結晶成長膜のInPテンプレート膜厚依存性

〇(M1)大貫雄也¹、西山哲央¹、鎌田直樹¹、韓旭¹、相川政輝¹、内田和希¹、杉山滉一¹、下村和彦¹ (1.上智大理工)

キーワード：InP/Si、直接貼付、膜厚依存