2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[14p-C31-1~13] 3.7 レーザープロセシング

2016年9月14日(水) 13:45 〜 17:30 C31 (日航3階孔雀AB)

佐藤 正健(産総研)、奈良崎 愛子(産総研)

16:15 〜 16:30

[14p-C31-9] 酸化ガリウム半導体内部への偏光依存ナノ周期構造形成とそのメカニズム解明

中西 佑太1、下間 靖彦1、坂倉 政明2、三浦 清貴1 (1.京大院工、2.京大産連本部)

キーワード:半導体、ナノ周期構造、フェムト秒レーザー

近年、我々は赤外フェムト秒レーザーのダブルパルス列を用いてSiおよびGaP結晶の内部構造を直接改質することに成功した。特に間接遷移型半導体の場合においてのみ、偏光依存ナノ周期構造が形成されることを経験的に見出している。本研究では、バンドギャップによる影響を確かめるため、間接遷移型半導体との報告があるβ-Ga2O3結晶(Eg ~ 4.8 eV)にフェムト秒レーザーを集光照射し、光誘起される構造変化について評価した。