[14p-D61-1~20] 11.4 Analog applications and their related technologies

[14p-D61-15] Improving superconducting characteristics of ALD-NbN films by Rapid Thermal Annealing (RTA) process

〇Masahiro Ukibe¹, Fujii Go¹, Shiki Shigetomo¹, Ohkubo Masataka¹ (1.AIST NeRI)

Keywords:NbN, STJ, particle detectors

静電型イオン蓄積リングでの中性フラグメント測定に適用することを目指し、2K以上の温度で動作可能な高性能NbN/AlN/NbN STJ（NbN-STJ）アレイ粒子検出器の開発を進めている。必要な信号雑音 (S/N) 比を実現するNbN-STJアレイ粒子検出器の開発には、0.1nm程度と極薄のトンネル層(AlN)をその厚さを高精度で制御しながら、欠陥無く形成する必要があるため、原子層堆積法(ALD)を用いて高品質NbN/AlN/NbN超伝導多層膜の成膜を試みている。今回は、ALD及びスパッタで成膜したNbN膜の特性(表面モーフォロジー、結晶性等)を評価した。さらに、ALDで成膜したNbN膜の急速熱処理（Rapid Thermal Annealing:RTA）によるT_Cの向上も試みた。