2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[14p-D63-1~10] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2016年9月14日(水) 13:15 〜 16:00 D63 (万代島ビル6階D3)

尾崎 壽紀(関西学院大)、一野 祐亮(名大)

14:00 〜 14:15

[14p-D63-4] KOHフラックス法を用いた高品質なNdBa2Cu3Oy膜の作製プロセスの検討

舩木 修平1、宮地 優悟1、児島 康大1、添田 圭佑1、山田 容士1 (1.島根大総理工)

キーワード:超伝導体

これまで我々は溶融水酸化物法を用いることで,2軸配向したRE124及びRE123を500°C程度の低温下で成膜することに成功したが,RE123は成膜温度の低温化に伴いRE/Ba置換が促進され,Tcが低下した.本研究では,RE/Ba置換の少ないRE123膜を低温プロセスで作製することを目的とし,作製時の酸素分圧制御,またRE124からRE123への相変態熱処理を行った.