[14p-D63-1~10] 11.2 薄膜，厚膜，テープ作製プロセスおよび結晶成長

[14p-D63-5] KOHフラックス法を用いた酸化物中間層上へのGd124膜の作製と評価

〇添田 圭佑¹、児島 康大¹、宮地 優悟¹、舩木 修平¹、山田 容士¹ (1.島根大　総理工)

キーワード：高温超伝導体、REBCO、KOHフラックス法

本研究では、KOHフラックス法を用いたREBCO線材作製に適する中間層を調査した。KOHは高い腐食性を有しているため、中間層の候補として耐腐食性が求められる。そこで様々な酸化物を基材として用い、REBCOの成膜を試みた。その結果、La-Ga-Oから成るペロブスカイト型酸化物を中間層として用いると、高品質なREBCO膜が作製でき、KOHフラックス法に適した中間層であることが確認された。