[14p-P10-1~25] Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"（Poster）

[14p-P10-3] Low temperature growth of ZnO film under nitrogen atmosphere

〇Kenji Yoshino¹, Akiko Mochihara¹, HImeka Tominaga¹, Toshio Naka² (1.Univ. Miyazaki, 2.Toso-finechem2)

Keywords:ZnO

近年、透明導伝膜を豊富で安価なZn を用いた酸化亜鉛（ZnO）を非真空で成膜することで低
コスト化を図ることが注目されている。これまでに希釈したジエチル亜鉛（DEZ）原料を用
いて、大気中でスピンコート法により低温（100℃以下）でのZnO 薄膜作製に成功した。本研
究では、新規材料を用いて窒素雰囲気下でスピンコート法を用いてZnO 薄膜の成膜を検討した。