[14p-P10-1~25] 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」（ポスター）

[14p-P10-3] 窒素雰囲気下でのZnO 膜の低温作製

〇吉野 賢二¹、持原 晶子¹、富永 姫香¹、中 俊雄² (1.宮崎大工、2.東ソー・ファインケム)

キーワード：酸化亜鉛

近年、透明導伝膜を豊富で安価なZn を用いた酸化亜鉛（ZnO）を非真空で成膜することで低
コスト化を図ることが注目されている。これまでに希釈したジエチル亜鉛（DEZ）原料を用
いて、大気中でスピンコート法により低温（100℃以下）でのZnO 薄膜作製に成功した。本研
究では、新規材料を用いて窒素雰囲気下でスピンコート法を用いてZnO 薄膜の成膜を検討した。