2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」 » 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[15a-A22-1~11] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

2016年9月15日(木) 09:00 〜 12:00 A22 (メインホールB)

阿部 友紀(鳥取大)

11:15 〜 11:30

[15a-A22-9] 各種基板上への透明p型半導体γ-CuI薄膜の作製

〇(M2)井野 龍一朗1、戸村 悠1、河村 匡記1、二宮 善彦1、山田 直臣1 (1.中部大院工)

キーワード:非酸化物透明p型半導体、フレキシブル

γ-CuI薄膜は、非酸化物系の透明p型半導体である。γ-CuIの価電子帯は、電気陰性度が低いヨウ素の5p軌道から構成されるため高移動度が期待できる。これまで我々は、固体ヨウ素を用いた反応法を確立し、多結晶のγ-CuI薄膜を低温プロセスで高移動度化することに成功した。低温プロセスで作製できるため、次の目標はポリエチレンテレフタラート(PET)基板上へγ-CuI薄膜を作製する事である。本講演では、PET基板上へ作製したγ-CuI薄膜の特性を報告する。