The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and control

[15a-B7-1~14] 8.1 Plasma production and control

Thu. Sep 15, 2016 9:00 AM - 12:30 PM B7 (Exhibition Hall)

Tatsuya Misawa(Saga Univ.), Tatsuo Ishijima(Kanazawa Univ.)

11:15 AM - 11:30 AM

[15a-B7-10] Experimental results of the Production of Highly Charged Ions with Two Frequencies are close together and are far from each other in Electron Cyclotron Resonance Heating

Atsushi Kitagawa1, Racz Richard2, Biri Sandor2, Muramatsu Masayuki1, Kato Yushi3 (1.NIRS, QST, 2.ATOMKI, 3.Osaka Univ.)

Keywords:ion source, highly-charged ion, ECR heating

電子サイクロトロン共鳴(ECR)イオン源において多価イオンのビーム強度を増加させるため、ECRプラズマの加熱に用いる周波数として複数の周波数を同時に導入する手法が経験的に知られている。我々は、今回、二つの周波数の差が1%程度と近接する場合と30%程度に大きく隔たる場合の実験データを取得し、現象に差が認められるかを確認した。