[15a-B7-1~14] 8.1 Plasma production and control

[15a-B7-9] Magnetic-Mirror Confined ECR Plasma Source Using Permanent Magnets

〇Tetsuya Goto¹, Kei-ichiro Sato², Yuki Yabuta³, Shigetoshi Sugawa¹ (1.NICHe, Tohoku Univ., 2.Kotec Co., LTD., 3.Seinan Industries Co., LTD.)

Keywords:Magnetic Mirror Confinement, ECR, Minimal Fab

小型の半導体製造用のプロセスプラズマ源として、永久磁石を用いたミラー磁場閉じ込めプラズマ源の開発を行っている。本プラズマ源は本、産総研が中心となり開発している新しい変種変量半導体生産システム「ミニマルファブ」に適用するものである。プラズマ励起は、5.8GHzのマイクロ波を用い電子サイクロトロン共鳴（ECR）を利用する。本発表にて、ラングミュアプローブにより得られたプラズマパラメータの空間的分布等、本プラズマ源の基礎的な特性を報告する。