2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[15p-B10-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月15日(木) 13:45 〜 18:30 B10 (展示控室1)

佐々木 実(豊田工大)

13:45 〜 14:15

[15p-B10-1] [13.半導体 分科内招待講演] フォトニクス集積化のためのMEMS

羽根 一博1、佐々木 敬1、Thubthimthong Borriboon1 (1.東北大院工)

キーワード:MEMS、シリコンフォトニクス、集積化

MEMSの集積化は種々の産業分野で有用である.中でもSiフォトニクスとLSIおよびMEMSとの集積化は,それぞれの分野がSi技術に基づいて発停していることより,それらの集積化システムには期待が高い.本稿では,MEMSのアクチュエータ技術および異種材料集積技術に関して,フォトニクス集積化の2,3の話題について,我々の研究を中心に紹介する