PDF ダウンロード スケジュール 8 いいね! 0 コメント (0) 13:30 〜 15:30 [15p-P11-7] 伸張歪みSi/緩和SiGe/Si(110)ヘテロ構造の結晶成長中における表面形状形成過程に関する研究 〇(M1)山田 崇峰1、宇津山 直人1、佐藤 圭1、白倉 麻衣2、山本 千綾3、有元 圭介1、山中 淳二1、原 康祐1、宇佐美 徳隆4、澤野 憲太郎5、中川 清和1 (1.山梨大クリスタル研、2.山梨大ものづくりセンター、3.山梨大機器分析センター、4.名古屋大、5.東京都市大総研) キーワード:歪みSi、半導体