[15p-P14-1~71] 2 放射線（ポスター）

[15p-P14-32] ポリスチレン膜中でのスピロピランのX線照射による異性化挙動

〇(M1)浅井 康平¹、越水 正典¹、藤本 裕¹、浅井 圭介¹ (1.東北大院工)

キーワード：フォトクロミズム、プラスチックシンチレータ、X線

スピロピランは代表的なフォトクロミック化合物である．フォトクロミズムとは，光照射により，物質の光物性が可逆的に変化する現象であり，同様の現象が放射線の照射により生じれば，放射線イメージングセンサーへの応用が可能である．我々は前回，X線の照射により，ポリメタクリル酸メチルに分散したスピロピラン化合物1,3,3-トリメチルインドリノ-6’-ニトロベンゾピリロスピラン(6-nitro BIPS)でフォトクロミズムが生じたことを報告した．本研究では，ポリメタクリル酸メチルよりも放射線耐性があり，共添加する蛍光体への高いエネルギー移動効率が期待されるポリスチレン中に分散した6-nitro BIPSのX線照射による異性化挙動を調べた．また有機蛍光体の共添加による増感の程度も調査した．