2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.5 表面物理・真空

[15p-P15-1~8] 6.5 表面物理・真空

2016年9月15日(木) 16:00 〜 18:00 P15 (展示ホール)

16:00 〜 18:00

[15p-P15-4] 放射光XPSによるSi(100)2×1へのCH3Cl吸着反応の研究

塚田 千恵1、吉田 光1、岡田 美智雄2、吉越 章隆1、矢板 毅1 (1.原子力機構、2.阪大理)

キーワード:Si(100)2×1、CH3Cl、吸着反応

SiやAlの酸化物で構成される粘土鉱物から放射性Csをハロゲン化物として脱離する方法を検討しているが、その脱離反応のメカニズムは不明である。我々は粘土鉱物とハロゲン系ガスの反応モデルとしてSi(100)2×1とCH3Clを選び、並進運動エネルギーを変化させたCH3Cl分子線照射によるCs/Si基板での反応解明を目的としている。本研究では第一段階として、CH3ClのSi(100)2×1に対する反応を放射光XPSで調べたが、CH3やClでSiダイマー原子に吸着したと考えられる。