[15p-P15-1~8] 6.5 表面物理・真空

[15p-P15-4] 放射光XPSによるSi(100)2×1へのCH₃Cl吸着反応の研究

〇塚田 千恵¹、吉田 光¹、岡田 美智雄²、吉越 章隆¹、矢板 毅¹ (1.原子力機構、2.阪大理)

キーワード：Si(100)2×1、CH3Cl、吸着反応

SiやAlの酸化物で構成される粘土鉱物から放射性Csをハロゲン化物として脱離する方法を検討しているが、その脱離反応のメカニズムは不明である。我々は粘土鉱物とハロゲン系ガスの反応モデルとしてSi(100)2×1とCH₃Clを選び、並進運動エネルギーを変化させたCH₃Cl分子線照射によるCs/Si基板での反応解明を目的としている。本研究では第一段階として、CH₃ClのSi(100)2×1に対する反応を放射光XPSで調べたが、CH₃やClでSiダイマー原子に吸着したと考えられる。