[15p-P3-1~32] 6.3 Oxide electronics

[15p-P3-25] Formation of TiO₂ films by the thermal oxidization of titanium films deposited by a glancing angle deposition

〇Yoji Yasuda¹, Yoichi Hoshi² (1.Kanagawa Prefectural Junior College for Industrial Technology, 2.Tokyo Polytechnic Univ.)

Keywords:photocatalyst, titanium dioxide, glancing angle deposition

我々はこの数年、酸化チタン膜の光触媒特性向上を目的として膜の微細構造制御に注目し検討を進めてきた。斜め入射堆積法を用いるとポーラスな膜が得られ実効的な表面積の向上や高い紫外線吸収率を達成してきたものの光触媒特性の顕著な向上は実現できなかった。以前の発表では、斜め入射体積したTi薄膜を大気中で熱酸化させルチル構造の膜が得られていた。光触媒特性が良いとされるアナターゼ単層の膜を得るには酸素供給量が重要であることから、今回酸素イオン照射下で熱酸化する手法を用いることでアナターゼ構造単層膜の成膜法について検討したので報告する。