2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[15p-P3-1~32] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2016年9月15日(木) 13:30 〜 15:30 P3 (展示ホール)

13:30 〜 15:30

[15p-P3-32] 金属・半導体ナノ粒子分散SiO2の形成と評価

出村 洋智1、Ulyashin Alexander2、永吉 浩1 (1.東京高専、2.SINTEF)

キーワード:PHPS、ナノ粒子

液体原料SiO2であるパーヒドロポリシラザン(PHPS)は空気中の水分と反応し、純粋なSiO2に転化する特徴を持つ。先行研究よりPHPSによって形成したSiO2膜は良好なパッシベーション特性を示すことが判明しており、これに様々なナノ粒子を組み合わせることで新たな特性を持つ機能性薄膜の形成を目的としている。今回はP+Siナノ粒子とPHPS,N型Si基板の組み合わせによる粒径、濃度依存性について報告する。