The 77th JSAP Autumn Meeting, 2016

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Poster presentation

8 Plasma Electronics » 8.3 deposition of thin film and surface treatment

[15p-P6-1~16] 8.3 deposition of thin film and surface treatment

Thu. Sep 15, 2016 1:30 PM - 3:30 PM P6 (Exhibition Hall)

1:30 PM - 3:30 PM

[15p-P6-5] Preparation of hydrogen embrittlement resistance thin films by plasma process and their properties I

Hiroharu Kawasaki1, Tamiko Ohshima1, Hoshihio Yagyu1, Takeshi Ihara1, Hiroshi Nishiguchi1 (1.Nat'l. Ins. Tech, Sasebo College)

Keywords:Plasma coating

現在,持続可能な水素エネルギーシステムの実現に向け,水素ぜい化問題および水素利用機器のコスト高が課題となっている。例えば、ステンレス鋼SUS316Lやアルミニウム合金A6061-T6などは耐水素侵入特性が良い等の理由で水素ぜい化が起こりにくいとされ[1]、高圧水素タンク等の水素利用機器の金属材料候補材として挙げられているが,これらはコストが高い。炭素鋼などの安価な材料で水素利用機器をつくり,表面のみに上述のアルミニウムなどでコーティングする研究が増えてきている。本研究では、プラズマプロセスを用いた薄膜作製とその効果について検討する。