2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[15p-P6-1~16] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2016年9月15日(木) 13:30 〜 15:30 P6 (展示ホール)

13:30 〜 15:30

[15p-P6-8] セシウム吸着熱電子放出表面形成におけるプラズマジェット前処理の効果

村田 健二朗1、荻野 明久1、森岡 直也2、木村 裕治2 (1.静大院工、2.(株)デンソー)

キーワード:表面処理、大気圧プラズマジェット、電子放出

酸素終端したダイヤモンド薄膜表面にセシウムを吸着させると電子親和力が低減し、熱電子発電の電極材料としての応用が期待できる。本研究ではセシウム安定吸着と電子放出特性の向上を目的とし、プラズマジェットにより酸素終端したダイヤモンド薄膜をセシウム雰囲気に設置したときの熱電子放出特性を調べた。その結果、プラズマ処理時間の増加とともに電子放出が増大した。この結果についてはXPSなどの表面解析結果と併せて考察した。