2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[16a-A25-1~16] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2016年9月16日(金) 09:00 〜 13:15 A25 (202)

鈴木 健伸(豊田工大)、斎藤 全(愛媛大)

10:00 〜 10:15

[16a-A25-5] 高周波誘導加熱により作製したシリカガラスの4.4 eV発光の温度依存性

〇(M2)永吉 佑1、内野 隆司1 (1.神戸大理)

キーワード:シリカガラス、発光、酸素空孔

我々は炭素坩堝を加熱源とした高周波誘導加熱を施したシリカガラスにおいて4.4 eV発光の熱励起効果が観測されたことを報告した。本研究では,試料を昇温,または降温させながら発光スペクトルの温度依存性を測定することにより,より詳細な熱励起効果の解析を試みた。その結果,室温以下の温度領域において発光強度が昇温と降温で異なる温度依存性を示したので,その理由について考察する。