[16a-A25-1~16] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[16a-A25-6] Diffusion of Hydroxyl Groups in Silica Glass through the Binding Interface
-The temperature change of the OH group concentration dependence of the diffusion coefficient-

〇Naoya Sato¹, Yu Arakawa¹, Nobu Kuzuu¹, Hideharu Horikoshi², Hiroki Sakakibara¹ (1.Univ. Fukui, 2.Tosoh SGM.)

Keywords:silica glass, hydroxyl, diffusion

表面を平坦に研磨したシリカガラスを接触し，荷重をかけて熱処理すると接合できる。この技術は、光学セルやフライアイレンズなどの製造に用いられている。接合界面間のOH基の拡散状態を調べるために，OH基濃度の異なるシリカガラスを接合したものを熱処理したときのOH基の拡散を調べた。当日は接合界面での拡散係数のOH基濃度依存性が高温で急増していることからシリカガラス中のボンドの切断について触れる。