[16a-B10-1~13] 13.4 Si wafer processing /Si based thin film /MEMS/Integration technology

[16a-B10-12] Characterization of Environment for Minimal Fab

〇Takashi Yajima^1,2, Sommawan Khumpuang^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.Minimal Fab)

Keywords:minimal fab

ミニマルファブはクリーンルームを必要としない半導体生産システムである。すでに我々はクリーン化を行わず、温湿度制御もオフィス空調レベルの実験室にて、トランジスタが正常に製造できることを実証してきたが、設置環境の変動については詳しく報告してこなかった。装置を設置している実験室の環境条件は継続的にデータ収集を行っている。そこで、本報告では、実験室の環境の詳細と、そこで作られるデバイス性能について述べる。