2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[16a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月16日(金) 09:00 〜 12:15 B10 (展示控室1)

角嶋 邦之(東工大)

11:45 〜 12:00

[16a-B10-12] ミニマル装置の設置環境評価

谷島 孝1,2、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ)

キーワード:ミニマルファブ

ミニマルファブはクリーンルームを必要としない半導体生産システムである。すでに我々はクリーン化を行わず、温湿度制御もオフィス空調レベルの実験室にて、トランジスタが正常に製造できることを実証してきたが、設置環境の変動については詳しく報告してこなかった。装置を設置している実験室の環境条件は継続的にデータ収集を行っている。そこで、本報告では、実験室の環境の詳細と、そこで作られるデバイス性能について述べる。