2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[16a-B10-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年9月16日(金) 09:00 〜 12:15 B10 (展示控室1)

角嶋 邦之(東工大)

11:00 〜 11:15

[16a-B10-9] 多結晶GeSnのキャリア輸送特性と熱伝導率

内田 紀行1、宮崎 吉宣1、前田 辰郎1、福田 浩一1、服部 淳一1、大石 佑治2、石丸 学4、Ruben R. Lieten3、Jean-Pierre Locquet3 (1.産総研ナノエレ、2.大阪大院、3.ル―ベン大、4.九工大)

キーワード:ゲルマニウムスズ化合物

Sn濃度を増加することで多結晶GeSnの結晶化温度は低くなるものの、グレイン成長がSnの析出により阻害される傾向にあり、キャリア移動度や熱伝導率の低下を招く。一方で、Sn濃度が5%程度の場合、Snの析出が抑えられ結晶グレインが大型化することで、キャリア移動度も熱伝導率も高い状態が実現され、トランジスタ応用に適性の高い多結晶GeSn膜を形成できる。