[16a-C32-1~12] 3.8 光計測技術・機器

[16a-C32-8] 凹面基板上の結晶性多層膜生成とその反射特性

〇井戸 哲也¹、望月 和人²、赤羽 浩一¹ (1.情通機構、2.電通大先進理工)

キーワード：分子線エピタキシー法、低損失多層膜鏡、熱雑音

曲率半径1mの凹面研磨を2インチ径GaAsウェハに施し、この基板上にMBEによってGaAs/AlAs結晶性多層膜を40ペア成膜することに成功した。得られた基板の透過率については計算値と近い結果となり、また反射損失をリングダウン測定により評価した結果270ppmという結果を得た。