[16a-P1-1~12] 3.2 材料・機器光学

[16a-P1-12] 光重合を利用したナノエンボス構造を有する高分子膜の作製

〇久野 恭平¹、宍戸 厚^1,2 (1.東工大化生研、2.JSTさきがけ)

キーワード：光重合、酸素阻害、ナノエンボス

高分子膜などのソフトマテリアル表面に三次元的に制御されたナノ構造を形成することで，様々な機能の付与が可能である。任意の構造を容易に形成できるトップダウンプロセスは実用に達しているが，三次元の構造形成が困難な点や高コストな点に難がある。筆者らは，不均一な重合反応が起こす分子拡散に注目している。本研究では，大気下でのラジカル性光重合により高分子表面にナノ構造をボトムアップ的に形成することに成功した。