2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[16a-P1-1~12] 3.2 材料・機器光学

2016年9月16日(金) 09:30 〜 11:30 P1 (展示ホール)

09:30 〜 11:30

[16a-P1-7] CWレーザ直接描画法を用いた液浸対物レンズによるフォトレジスト膜への三次元微細加工

〇(M1)中田 慎二1、江上 力1 (1.静岡大工)

キーワード:非線形光学、レーザ加工、フォトレジスト