[16a-P3-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16a-P3-3] Fe₃Si/FeSi₂人工格子膜における強磁性層間結合の温度依存性

〇吉武 剛¹、竹市 悟志¹、花島 隆泰²、宮田 登²、堺 研一郎³、出口 博之⁴ (1.九大総理工、2.中性子科セ、3.久留米高専、4.九工大工)

キーワード：層間結合、人工格子膜、鉄シリサイド

Fe₃Si/FeSi₂人工格子膜を対向ターゲット式DCスパッタリング法を用いてSi(111)基板上に作製した．強磁性相関に誘起される強磁性層間結合の温度依存性を偏極中性子反射率測定により調べた．