[16p-A22-1~6] 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」

[16p-A22-4] Ar/N₂混合スパッタで作製したアモルファスCuCrO₂薄膜の固相成長

〇千葉 博^1,2、保坂 直寿¹、川島 知之¹、鷲尾 勝由¹ (1.東北大院工、2.学振特別研究員)

キーワード：デラフォサイト、固相成長、RFマグネトロンスパッタ法

これまでにRFマグネトロンスパッタ法によるCuCrO₂薄膜形成において、アルゴン窒素混合（Ar/N₂）ガス利用による定比性の改善効果と、アモルファスからの熱処理を用いた固相成長による傾斜配向抑制を見出している。本研究では、Ar/N₂ガスにより定比性制御したアモルファスCuCrO₂薄膜の固相成長を検討した。発表では、アモルファス膜の定比性と固相成長による配向性の関係について述べる。