2016年 第77回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[16p-A24-1~11] 16.3 シリコン系太陽電池

2016年9月16日(金) 13:15 〜 16:15 A24 (201A)

大平 圭介(北陸先端大)、齋 均(産総研)

14:45 〜 15:00

[16p-A24-6] 固体ソースMBE法で作製した単層Geドットマスクを用いた結晶Si太陽電池用光閉じ込め構造の表面形態

〇(M1)本部 惇史1、黒川 康良1、Dmitrij Yuasov2、Alexey Novikov2、宇佐美 徳隆1 (1.名大院工、2.ロシア科学アカデミー)

キーワード:光閉じ込め、太陽電池、Geドット構造

固体ソース分子線エピタキシー法によりSi(100)基板上にGeドット構造を成長させた。その試料をアルカリ溶液で処理することによりGeドットをマスクのように機能させSi基板表面上にナノスケールの太陽電池用光閉じ込め構造を作製した。Geドット成長条件による表面形態の変化と、その形態変化が光学特性に与える影響について調査した。