18:45 〜 19:00 △ [20p-S011-20] プラズマCVDのグラフェン合成におけるガス残渣の影響 〇沖川 侑揮1,2、加藤 隆一2、山田 貴壽1,2、石原 正統1,2、長谷川 雅考1,2 (1.産総研、2.TASC)