下谷将人

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発表者・著者、共著者

2016年3月21日(月) 13:00 〜 18:45 H111 (本館)

一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

15:45 〜 16:00

△ [21p-H111-12] ルチル型TiO₂単結晶の酸素空孔分布制御と抵抗変化特性

〇下谷将人¹、竹内正太郎¹、酒井朗¹ (1.阪大院基礎工)