16:00 〜 18:00 [20p-P13-11] RFスパッタリング法による多結晶BaSi2薄膜の形成 横山 晟也1、召田 雅実2、倉持 豪人2、都甲 薫1、〇末益 崇1 (1.筑波大院、2.東ソー株式会社)