内藤泰久

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座長等

2016年3月21日(月) 13:00 〜 18:45 H111 (本館)

一般セッション(口頭講演)
| 6 薄膜・表面
| 6.3 酸化物エレクトロニクス

[21p-H111-1~22] 6.3 酸化物エレクトロニクス

島久(産総研)、内藤泰久(産総研)