一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.14 光制御デバイス・光ファイバー
2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S321 (南3号館)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇水野 洋輔1、林 寧生1、福田 英幸1、中村 健太郎1 (1.東工大精研)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇(M1)氏原 大希1、林 寧生1、水野 洋輔1、中村 健太郎1 (1.東工大精研)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇閑 誠1、林 寧生1、水野 洋輔1、中村 健太郎1 (1.東工大精研)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇和田 篤1、田中 哲1、髙橋 信明1 (1.防衛大)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇(M1)木舩 拓也1、坂田 肇1 (1.静岡大工)
スケジュール
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10:30 〜 10:45
〇増山 圭1、庄司 雄哉1、水本 哲弥1 (1.東工大)
スケジュール
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10:45 〜 11:00
〇波多腰 玄一1、伊賀 健一2 (1.早稲田大、2.東工大)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(M1)小野 裕介1、石野 雅章2、岡本 亮1、横山 士吉2,3、竹内 繁樹1 (1.京大院工、2.九大院総理工、3.九大先導研)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇早坂 伸之1、荒川 太郎1、國分 泰雄1 (1.横国大院工)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇井上 純一1、奥田 弘樹1、裏 升吾1 (1.京都工繊大)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇森 裕之1、顧 暁冬1、松谷 晃宏2、小山 二三夫1 (1.東工大精研、2.半導体プロセス技術センター)
スケジュール
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12:00 〜 12:15
〇磯前 慶友1、柴田 陽生1、石鍋 隆宏1、藤掛 英夫1 (1.東北大院工)
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