一般セッション(ショート付ポスター講演)
3 光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料
16:00 〜 18:00
〇Chosrowjan Haik1、Kitamura Toshiyuki1、Taniguchi Seiji1、Fujita Masayuki1、Izawa Yasukazu1 (1.Inst. for Laser Tech)
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16:00 〜 18:00
〇廣澤 賢一1,2、正田 史生1、柳澤 隆行1、神成 文彦2 (1.三菱電機情報総研、2.慶大理工)
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16:00 〜 18:00
〇飯島 功大1、狩山 了介1、田中 裕樹1、清田 恭章1、神成 文彦1 (1.慶大理工)
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16:00 〜 18:00
〇澤田 亮太1、田中 裕樹1、狩山 了介1、神成 文彦1 (1.慶大理工)
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16:00 〜 18:00
〇佐藤 庸一1、平等 拓範1 (1.分子研)
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16:00 〜 18:00
〇(M1C)佐藤 圭祐1、渡邊 昌良2、齋藤 伸吾3、兵頭 政春1 (1.金沢大、2.電通大、3.情報通信研究機構)
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16:00 〜 18:00
橋本 拓也1、〇斉藤 光徳1 (1.龍谷大理工)
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16:00 〜 18:00
〇八尾 顕1,2、阪口 雄基2、平石 隆之3、影林 由郎3、藤本 靖2、中野 人志1 (1.近大理工、2.阪大レーザー研、3.ウシオ電機)
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16:00 〜 18:00
〇(D)WANG YU1、Set Sze1、Yamashita Shinji1 (1.The Univ. of Tokyo)
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16:00 〜 18:00
〇大石 裕1,2、宮崎 洸治1、斉藤 徳人1、Oleg Louchev1、中村 惇平2、三宅 康博2、和田 智之1、岩崎 雅彦1 (1.理研、2.高エネ研)
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