一般セッション(口頭講演)
合同セッションＫ » 合同セッションＫ ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
09:30 〜 09:45
〇田中 聡1、清水 耕作1 (1.日大生産工)
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09:45 〜 10:00
〇(M2)栗島 一徳1,2、生田目 俊秀2、三苫 伸彦2、木津 たきお2、塚越 一仁2、澤田 朋実2、大井 暁彦2、山本 逸平3,2、大石 知司3、知京 豊裕2、小椋 厚志1 (1.明治大、2.物材機構 WPI-MANA、3.芝浦工大)
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10:00 〜 10:15
〇須古 彩香1、賈 軍軍1、中村 新一1、岡島 敏浩2、重里 有三1 (1.青山学院大、2.九州シンクロトロン光研究センター)
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10:15 〜 10:30
〇高橋 正弘1、中山 智則1、菊地 彫1、中島 基1、山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
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10:30 〜 10:45
〇山内 諒1、太田 将志1、山田 良則1、石黒 佳美1、山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
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10:45 〜 11:00
〇石黒 佳美1、黒澤 陽一1、菊地 彫1、高橋 正弘1、中山 智則1、津吹 将志1、山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
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11:00 〜 11:15
〇金 正煥1、関谷 拓実1、井手 啓介1、平松 秀典1、細野 秀雄1、神谷 利夫1 (1.東工大応セラ研)
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11:15 〜 11:30
〇神谷 利夫1,2、Kim Junghwan1、三代川 範彦1、井手 啓介1、戸田 喜丈2、平松 秀典1,2、細野 秀雄1,2 (1.東工大応セラ研、2.東工大元素センター)
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