[19a-H111-1~13] 6.3 Oxide electronics

△ [19a-H111-5] Optical transparency and structural properties in CuCrO₂ thin films fabricated by reactive RF magnetron sputtering

〇Hiroshi Chiba¹, Tomoyuki Kawashima¹, Katsuyoshi Washio¹ (1.Tohoku Univ.)

Keywords:delafossite oxide,reactive RF magnetron sputtering,p-type widegap semiconductor

デラフォサイト型酸化物ABO₂はp形透明酸化物半導体として有望視されており、特にCuCrO₂は低抵抗材料として期待されている。しかし、可視光透過率や配向性の向上と副生成物(CuO, Cr₂O₃など)の低減も求められている。本研究では、RFスパッタ法において反応性のアルゴン窒素混合ガス（Ar/N₂）の割合を変化し、可視光透過性と薄膜構造について検討した。