[19a-P2-1~24] 12.1 作製・構造制御

[19a-P2-10] 真空蒸着法を用いたHC(NH₂)₂PbI₃薄膜の作製

梶川 剛志¹、松本 晃尚²、松岡 佑樹²、〇田中 仙君² (1.近畿大院総合理工、2.近畿大理工)

キーワード：有機鉛ペロブスカイト、真空蒸着法

鉛ペロブスカイト薄膜の作製手法には溶液法と蒸着法とがあるが、蒸着法についての知見は乏しい。我々は、鉛ペロブスカイト薄膜の一種であるHC(NH₂)₂PbI₃ (FAPbI₃)薄膜を真空蒸着法を用いて作製した。基板温度を80℃に設定し、ハロゲン化鉛とホルムアミジンよう化水素酸塩を1:20の蒸着レート割合で共蒸着することで良好な膜質のFAI薄膜作製に成功した。良好な薄膜作製のためには、蒸着レートと基板温度の制御が必要であることが分かった。