2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[19a-P2-1~24] 12.1 作製・構造制御

2016年3月19日(土) 09:30 〜 11:30 P2 (屋内運動場)

09:30 〜 11:30

[19a-P2-13] 静電スプレー堆積法で作製したP3HT:PCBMバルクヘテロ接合太陽電池に与える溶媒蒸気アニールの効果

石間 康久1、高橋 和志1、小野島 紀夫1 (1.山梨大)

キーワード:有機太陽電池、静電スプレー堆積法、溶媒蒸気アニール

我々は、大面積成膜が可能なESD法を用いて有機太陽電池の活性層を作製している。しかし、ESD法で成膜した活性層表面には液滴跡が残るため、液滴跡の境界で電荷輸送の阻害が起こることや大きな表面粗さがリークの原因となり特性の低下につながるという欠点がある。そこで本研究では、SVA処理により活性層表面の平坦化を行っている。今回、ESD法の堆積条件及びSVA処理の条件が太陽電池特性へ与える影響を調べたので報告する。