2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

12 有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製・構造制御

[19a-P2-1~24] 12.1 作製・構造制御

2016年3月19日(土) 09:30 〜 11:30 P2 (屋内運動場)

09:30 〜 11:30

[19a-P2-15] 摩擦転写法による有機デバイスのn-バッファー層形成

谷垣 宣孝1、溝黒 登志子1 (1.産総研無機機能)

キーワード:摩擦転写、ポリフルオレン、有機薄膜太陽電池

我々はn-バッファー層の製膜に溶媒を用いない摩擦転写法の適用を検討した。材料としてはポリフルオレン系の高分子材料PFN-P1を用いた。摩擦転写法によってPFN-P1をITO透明電極基板上に製膜することができた。これを用いて有機薄膜太陽電池、有機EL素子を作製した。これらのデバイスにおいてPFN-P1摩擦転写膜がn-バッファー層として機能することを確認できた。