2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[19p-H103-1~21] 6.2 カーボン系薄膜

2016年3月19日(土) 13:15 〜 19:00 H103 (本館)

川原田 洋(早大)、寺地 徳之(物材機構)、河野 省三(早大)、徳田 規夫(金沢大)

17:15 〜 17:30

[19p-H103-15] 縦型構造トレンチチャネルC-HダイヤモンドMOSFET(Ⅱ)

〇(B)牟田 翼1、斎藤 俊輝1、工藤 拓也1、北林 祐哉1、松村 大輔1、牛 俊雄1、稲葉 優文1、平岩 篤1、川原田 洋1 (1.早大理工)

キーワード:ダイヤモンド、半導体

本研究では縦方向に電流を流す水素終端ダイヤモンド表面の2DHGを利用したMOSFETを作製した。ダイヤモンド表面にはC-H結合が施されており、これにより2DHGが誘起される。この2DHGは形状によらず、水素終端面の直下に発生する。トレンチ構造の側面にALD法を用いてAl2O3膜をパッシベーション膜及びゲート絶縁膜を形成し、そこで発生した2DHGにより縦型チャネルFETが動作することを確認したが、縦に電流が貫通する構造ではなかった。