[19p-H112-1~15] 15.1 バルク結晶成長

[19p-H112-15] フッ化物光学結晶の育成と評価

〇中畑 秀利¹、中嶋 力夫¹ (1.ナカジマ技研)

キーワード：スカベンジャー、ArFエキシマレーザー、フッ化物光学結晶

193nmのArFエキシマレーザーに耐性のある光学結晶をつくるために、金属イオンが残留しないようにガススカベンジャーを使用して高純度化を行った。また、結晶の再配列を行い、欠陥の発生を抑えた。その評価は、γ線照射を行い、透過率低下で調べた。