2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-H121-1~16] 15.4 III-V族窒化物結晶

2016年3月19日(土) 13:15 〜 18:00 H121 (本館)

有田 宗貴(東大)、太田 実雄(東大)、小島 一信(東北大)

17:00 〜 17:15

[19p-H121-13] Ⅲ族窒化物ナノワイヤを用いた端面発光レーザの理論的検討

栗崎 湧気1、上山 智1、竹内 哲也1、岩谷 素顕1、赤﨑 勇1,2 (1.名城大・理工、2.名古屋大・赤﨑記念研究センター)

キーワード:ナノワイヤ、半導体レーザ

現代社会は急速に情報化が進んでいる。それに伴い、光ディスクや光通信の技術の重要性が増している。そこで我々は高効率・高出力の半導体レーザの実現に対して、Ⅲ族窒化物ナノワイヤに注目した。周期利得を形成するように配置されたGaNナノワイヤ上Core-shell型GaN/GaInN MQWを活性層とし、非極性m面活性層からの発光を共振器内で増幅させる新構想の端面発光レーザについて検討を行った。光学利得係数の算出と光閉じ込め係数の理論計算を行った結果、従来構造の端面発光レーザに比べて優れた特性を示したので報告する。