2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[19p-H121-1~16] 15.4 III-V族窒化物結晶

2016年3月19日(土) 13:15 〜 18:00 H121 (本館)

有田 宗貴(東大)、太田 実雄(東大)、小島 一信(東北大)

15:00 〜 15:15

[19p-H121-6] InGaNナノコラムにおける成長機構と臨界コラム径

〇(PC)大音 隆男1、水野 祐太郎1、柳原 藍1、宮川 倫1、加納 達也1、吉田 純1、榊原 直樹1、岸野 克巳1,2 (1.上智大理工、2.上智大ナノテク)

キーワード:ナノコラム、ナノワイヤ、InGaN

様々なコラム径のGaNナノコラム上に作製したInGaNナノコラムの成長機構と臨界コラム径を議論した.臨界コラム径Dcより細いGaNナノコラム上には同一のコラム径でInGaNナノコラムが成長するのに対し,太いGaNナノコラム上ではInGaNのコラム径はDcに収束し,自発的にcore-shell構造を形成した.また,ミスフィット転位は観測されなかった.ナノコラムの歪エネルギーを最小化するために,Dc以下のInGaNナノコラムしか成長しなかったと考えられる.