The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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8 Plasma Electronics » 8.1 Plasma production and control

[19p-P5-1~5] 8.1 Plasma production and control

Sat. Mar 19, 2016 4:00 PM - 6:00 PM P5 (Gymnasium)

4:00 PM - 6:00 PM

[19p-P5-5] Basic researches of microwave plasmas in higher than atmospheric pressure gasses

Kenichi Inoue1, Sven Stauss1, Jaeho Kim2, Kazuo Terashima1 (1.Tokyo Univ., 2.AIST)

Keywords:microwave plasma,high pressure

高圧ガスを媒質とするプラズマは分子密度が高くなり気相での反応速度が向上するため、マイクロ波プラズマの性質と合わせることで高い反応性や高速処理が期待できる。しかし大気圧よりも高圧環境でのマイクロ波プラズマ発生の先行研究が少ない。そこで本研究では工業的な実用性の高い大気圧から10気圧までの圧力領域で、Arを初めとする数種のガス中でマイクロ波プラズマの生成と診断を行った。