[19p-P6-1~8] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[19p-P6-1] 裏面照射型粉体PLDによる機能性薄膜の作製I

〇川崎 仁晴¹、大島 多美子¹、柳生 義人¹、猪原 武士¹、山内 真紀子¹ (1.佐世保高専)

キーワード：粉体ターゲット、パルスレーザ体積法、プラズマプロセス

裏面からのレーザ照射によるパルスレーザ体積法によって薄膜作製を試みた。ターゲットにTiやBN、WO₃の粉体を用いて機能性薄膜の作製を行った。ナターゼの混合したマルチエレメントの結晶ピークが表れていることがわかった。また、ここには示していないがSi基板をSEMで分析した結果、基板上に薄膜らしき凹凸と、いわゆるドロップレットと思われる微粒子が存在していることがわかった。ここには示していないが、これ以外にも、BN薄膜やタングステン薄膜の作製も行った。XRDおよびSEMによる分析結果では、すべてそれぞれの結晶ピークが検出された。基板加熱無しで結晶性が表れたのは、照射したレーザによる基板加熱によると考えている。以上の結果から、今回行った裏面照射型のPLDによって結晶性のある薄膜が作製可能であることが示唆された。