[19p-W321-1~14] 3.7 レーザープロセシング

[19p-W321-10] 真空紫外レーザーによるシリコーンゴム表面への微細周期構造の形成(2)

〇ウィスヌ パンブディ セティオ¹、大越 昌幸¹、山下 嗣人² (1.防衛大学校、2.関東学院大学)

キーワード：ArFエキシマレーザー、シリコーンゴム ; 微細隆起構造、超純水性

厚さ2 ㎜のシリコーンゴム表面に，直径2.5 mmのシリカガラス製微小球を予め単層に整列させ，微小球表面にArFエキシマレーザー（波長193 nm）を，フルエンス10 mJ/cm²，照射時間60 min，パルス繰り返し周波数1 Hzで照射した．その結果，2.5 mmの間隔で，高さ約1.3 mmの周期的な微細隆起構造が形成することを明らかにした．微細隆起構造が形成した試料表面に水を滴下したところ，LB-ADSA方法を用いて評価した接触角が150度以上を示し，シリコーンゴム表面に超撥水性を発現させることができた．