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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[19p-W321-1~14] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月19日(土) 13:30 〜 17:30 W321 (西2・3号館)

石川善恵(産総研)、和田裕之(東工大)、池上浩(九大)

13:45 〜 14:00

[19p-W321-2] 光散乱を用いた結晶性高分子薄膜の構造変化検出の可能性について

〇(M1)宇都裕貴¹、溝端圭介¹、Maurya Sandeep¹、中嶋隆¹ (1.京大エネ研)

キーワード：レーザー，薄膜

　　　